Produkte
Ionenstrahlkegel
  • IonenstrahlkegelIonenstrahlkegel
  • IonenstrahlkegelIonenstrahlkegel
  • IonenstrahlkegelIonenstrahlkegel
  • IonenstrahlkegelIonenstrahlkegel
  • IonenstrahlkegelIonenstrahlkegel

Ionenstrahlkegel

SIKAIDA-Ionenstrahlkegel sind hochpräzise Keramikkomponenten für die Halbleiter-Ionenimplantation. Diese Kegel werden aus ultrahochreinem Aluminiumoxid, Siliziumnitrid und Zirkoniumoxid durch Präzisionsspritzguss und Hochtemperatursintern hergestellt und zeichnen sich durch außergewöhnliche Reinheit, thermische Stabilität, geometrische Genauigkeit und Oberflächengüte aus und gewährleisten eine stabile und gleichmäßige Ionenstrahlübertragung.

SIKAIDA-Ionenstrahlkegel sind Kernkomponenten von Ionenstrahlimplantations- und Übertragungssystemen. Sie bestehen aus hochreinen Hochleistungskeramikmaterialien und werden durch Präzisionsspritzguss und Hochtemperatursintern verarbeitet. Sie zeichnen sich durch einen extrem niedrigen Verunreinigungsgehalt, eine hohe Temperaturbeständigkeit und eine stabile Maßgenauigkeit aus. Sie können in komplexe Geometrien bearbeitet werden, um extrem hohe Toleranzanforderungen zu erfüllen, wodurch sie für Hochleistungs-Halbleiter-Ionenimplantationsprozesse geeignet sind.


Als professioneller Hersteller in China bietet SIKAIDA zuverlässige, kostengünstige und anpassbare Ionenstrahlkegel für Kunden weltweit in den Bereichen Halbleiter, Flachbildschirme, Optik, mikroelektromechanische Systeme (MEMS) und Solarenergie. SIKAIDA ist ein vertrauenswürdiger, langfristiger Lieferant und eine spezielle Produktionsstätte für hochwertige Ionenstrahlprozesskomponenten.

Materialien und Herstellung

1. Materialien

Ion Beam Cones verwendet Materialien wie Aluminiumoxid (Al₂O₃) mit einer Reinheit ≥99,9 %, Siliziumnitrid (Si₃N₄) mit einer Reinheit ≥99,5 %, Zirkoniumoxid (ZrO₂) mit einer Reinheit ≥99,8 % und Quarzglas (99,999 %). Alle Materialien erfüllen die strengen Reinheitsstandards der Halbleiterindustrie und sind für die Leistungsanforderungen verschiedener Anwendungen geeignet.


2. Herstellungsprozess

Der Herstellungsprozess umfasst Präzisionsspritzguss, Hochtemperatursintern, CNC-Präzisionsbearbeitung, Hochglanzpolieren sowie automatisierte Reinigung und Prüfung. Jeder Prozess wird streng auf Präzision und Qualität kontrolliert, um sicherzustellen, dass das Endprodukt den Industriestandards und Kundenanforderungen entspricht.

Wichtige Produktparameter

1. Maßgenauigkeit

Bei Ionenstrahlkegeln liegen die Toleranzen bei ±0,05 mm, die Oberflächenrauheit Ra≤0,4 μm, die Konizitätsgenauigkeit der inneren Löcher ±0,02 mm, die Koaxialität ≤0,03 mm und die Rechtwinkligkeit ≤0,02 mm. Diese extrem hohe Maßgenauigkeit stellt effektiv die Präzision der Ionenstrahlübertragung sicher.


2. Oberflächenbehandlung

Zu den Oberflächenbehandlungen gehören mechanisches Polieren für einen Hochglanz, UV-gehärtete Beschichtungen zur Verbesserung der Oberflächeneigenschaften, kratzfeste Beschichtungen zur Verbesserung der Verschleißfestigkeit sowie Säurebeizen und Passivierung zur Entfernung von Verunreinigungen und zur Verbesserung der Stabilität. Je nach Anwendungserfordernis können geeignete Behandlungsmethoden ausgewählt werden.


3. Leistungsindikatoren

Ionenstrahlkegel arbeiten in einem Temperaturbereich von -196℃ bis +800℃ und gewährleisten so einen stabilen Betrieb in Umgebungen mit extremen Temperaturen. Sie besitzen einen Volumenwiderstand von ≥10¹⁴Ω·cm und einen Oberflächenwiderstand von ≥10¹²Ω und weisen hervorragende Isolationseigenschaften auf. Sie verfügen außerdem über eine hervorragende Beständigkeit gegen Plasma- und chemische Korrosion und können sich so an komplexe Prozessumgebungen anpassen.

Kernvorteile

1. Ultrahohe Reinheit: Die Reinheit des Rohmaterials liegt bei über 99,9 %, wodurch die Kontamination von Halbleiterwafern minimiert, eine stabile elektrische Leistung der Geräte gewährleistet und die strengen Reinheitsanforderungen der Halbleiterherstellung erfüllt werden.

2. Extrem hohe geometrische Genauigkeit: Gewährleistet konsistente Produktabmessungen während der Massenproduktion, wobei der Konizitätsfehler auf ±0,05 mm und der Rundheitsfehler ≤0,02 mm kontrolliert werden und genau den Installations- und Nutzungsanforderungen von Ionenstrahlübertragungssystemen entsprechen.

3. Spiegelähnliche Oberflächenqualität: Oberflächenrauheit Ra≤0,4 μm, wodurch die Ionenstrahlstreuung effektiv reduziert, die Gleichmäßigkeit der Ionenstrahlübertragung verbessert und die Implantationsgenauigkeit von Halbleiterbauelementen weiter optimiert wird.

4. Stabilität über einen großen Temperaturbereich: Funktioniert stabil in Umgebungen mit tiefen kryogenen bis hohen Temperaturen. Das Material verfügt über einen extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch auch bei Temperaturschwankungen eine hervorragende Dimensionsstabilität erhalten bleibt und Leistungseinbußen durch Temperaturschwankungen verhindert werden.

5. Hervorragende Isolierung und Korrosionsbeständigkeit: Verhindert wirksam die Ladungsansammlung während der Ionenstrahlübertragung und widersteht starken Säuren, starken Laugen und verschiedenen Plasmakorrosionen, wodurch ein langfristig stabiler Betrieb in komplexen Prozessumgebungen gewährleistet wird.

Maßgeschneiderte Dienstleistungen

Produktmodelle und -größen können an unterschiedliche Prozessanforderungen angepasst werden. Zu den unterstützten Zeichnungsformaten gehören STP, STEP, IGS, XT, DXF, DWG, PDF und physische Muster. Was die Lieferzeit betrifft, beträgt die Lieferung von Mustern 4 bis 7 Wochen und die Lieferung von Chargenprodukten 8 bis 12 Wochen. Unser Qualitätssystem entspricht den Standards ISO9001:2015, SGS RoHS, REACH und SEMI und gewährleistet umfassend Produktqualität und Liefereffizienz.

Anwendungsbereiche

Ionenstrahlkegel werden in zahlreichen Bereichen eingesetzt, darunter Ionenimplantierer in der Halbleiterfertigung, Verarbeitungsgeräte in Flachbildschirmen, Ionenstrahlabscheidungs- (IBD) und Ionenstrahlätzsysteme (IBE) in der Herstellung optischer Geräte, mikroelektromechanische Systeme (MEMS), Ionendotierungsgeräte für Solarzellen und Ionenimplantationsprozesse für Leistungshalbleiterbauelemente wie Bipolartransistoren mit isoliertem Gate (IGBTs) und Leistungs-MOSFETs.

Häufig gestellte Fragen:

F1: Welche Materialien werden typischerweise in Ionenstrahlkegeln verwendet?

A1: Wir verwenden hauptsächlich fortschrittliche Keramikmaterialien wie hochreines Aluminiumoxid (Al₂O₃), Siliziumnitrid (Si₃N₄) und Zirkoniumoxid (ZrO₂). Diese Materialien zeichnen sich durch eine extrem hohe Reinheit, hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit und stabile elektrische Eigenschaften aus.


F2: Kann UET maßgeschneiderte Spezifikationen und Oberflächenbehandlungen anbieten? 

A2: Ja. UET kann die Größe, Konizität, Materialart und Oberflächenbehandlung der Kegel entsprechend Ihren Prozessanforderungen anpassen. Wir verfügen über umfangreiche Fertigungserfahrung und können die spezifischen Anwendungsanforderungen der Kunden erfüllen.


F3: Wie wird die Präzision und Qualität der Ionenstrahlkegel garantiert?

A3: Wir übernehmen das Qualitätsmanagementsystem ISO9001:2015 und sind mit hochpräzisen Prüfgeräten ausgestattet, darunter einem Koordinatenmessgerät, einem Oberflächenrauheitstester und einem Röntgenfluoreszenzspektrometer, um sicherzustellen, dass jede Produktcharge strengen Industriestandards entspricht.


F4: Wie ist der Lieferzyklus?

A4: Der Musterlieferzyklus beträgt 4–7 Wochen und der Chargenproduktlieferzyklus 8–12 Wochen. Der spezifische Zyklus hängt von der Produktkomplexität und der Bestellmenge ab.

Hot-Tags: Ionenstrahlkegel, China, Hersteller, Lieferant, Fabrik
Verwandte Kategorie
Anfrage absenden
Kontaktinformation

Willkommen auf unserer Website! Für Anfragen zu unseren Produkten oder unserer Preisliste hinterlassen Sie uns bitte Ihre E-Mail und wir werden uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

X
Wir verwenden Cookies, um Ihnen ein besseres Surferlebnis zu bieten, den Website-Verkehr zu analysieren und Inhalte zu personalisieren. Durch die Nutzung dieser Website stimmen Sie der Verwendung von Cookies zu. Datenschutzrichtlinie
Ablehnen Akzeptieren