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Mcvd-Discs

SIKAIDA Mcvd Discs sind speziell für MCVD-Prozesse konzipiert. Sie bestehen aus isostatisch gepresstem hochreinem Graphit und werden mithilfe von CNC-Bearbeitung und Oberflächenbehandlung präzisionsgefertigt. Sie weisen eine hervorragende thermische Stabilität, hohe Wärmeleitfähigkeit und Maßhaltigkeit auf. Als professioneller Hersteller und zuverlässiger Lieferant in China verfügt SIKAIDA über fortschrittliche Anlagen und konzentriert sich auf die Bereitstellung leistungsstarker Graphit-Verbrauchsmaterialien für optische Faservorformen, Halbleiterbeschichtungen und andere Bereiche. Die Anpassung wird unterstützt, wodurch die Prozessstabilität gewährleistet, Verunreinigungen reduziert und die Ausbeute verbessert werden.

SIKAIDA Mcvd Discs sind Kernverbrauchsmaterialien für MCVD-Reaktoren, die korrosiven Umgebungen mit hohen Temperaturen standhalten und während der Langzeitabscheidung Dimensionsstabilität und gleichmäßige Wärmeverteilung aufrechterhalten. Mit einer Reinheit von ≥99,99 % bieten sie eine hervorragende thermische Stabilität und hohe Präzision. Spezielle Oberflächenbehandlungen reduzieren Verunreinigungen und Filmanhaftungen, sind mit den meisten Reaktoren kompatibel, einfach zu installieren und haben eine lange Lebensdauer.


Materialien und Verarbeitung: SIKAIDA Mcvd Discs verwenden isostatisch gepressten hochreinen Graphit mit einer Reinheit ≥99,99 %, präzisionsgefertigt mit CNC-Bearbeitungszentren und anderen Geräten. Die Oberfläche wird einer hochreinen Beschichtung oder Antioxidationsbehandlung unterzogen, wodurch sie in der Glasfaserherstellung und in der Halbleiter-Dünnschichtabscheidungsindustrie weit verbreitet sind.

Kernvorteile

1. Hohe Reinheit und geringe Kontamination: McVd-Scheiben verwenden Graphit mit einer Reinheit von 99,99 % oder höher, der bei hohen Temperaturen gereinigt wird, was das Risiko einer Metallionenkontamination erheblich reduziert und stabile und qualifizierte Prozesse und Produkte gewährleistet.

2. Hervorragende thermische Stabilität: Der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient und die hohe Temperaturwechselbeständigkeit sorgen dafür, dass bei Hochtemperaturzyklen keine Risse oder Verformungen auftreten, die Maßgenauigkeit stabil bleibt und die Hochtemperaturanforderungen von MCVD erfüllt werden.

3. Gleichmäßige Wärmeverteilung: Eine hohe Wärmeleitfähigkeit ermöglicht eine schnelle Temperaturreaktion und eine gleichmäßige Verteilung, unterstützt die Bildung eines gleichmäßigen und dichten Abscheidungsfilms und verbessert die Abscheidungsqualität.

4. Ultrahohe Präzision: Bei der präzisen CNC-Bearbeitung werden Ebenheit, Parallelität und Lochpositionstoleranzen streng kontrolliert, um eine perfekte Anpassung an den Reaktor zu erreichen und einen langfristig stabilen Betrieb der Ausrüstung sicherzustellen.

5. Lange Lebensdauer: Eine spezielle Antioxidations- und Korrosionsschutz-Oberflächenbehandlung verlängert die Lebensdauer in korrosiven Atmosphären und senkt die Gesamtbetriebskosten für Kunden.

Spezifikationen und Anpassungsdienste

1. Graphitsorten

Deckt mehrere Graphitqualitäten ab: isostatisch hochreiner Graphit (ISO-88, ISO-63, HPG-Serie), geformter hochreiner Graphit (EDM-, MG-Serie) und speziell beschichteter Graphit (SiC-, PyC-, Al₂O₃-Beschichtung), geeignet für verschiedene Anwendungen.


2. Oberflächenbehandlungsprozesse

Bietet mehrere Oberflächenbehandlungen: Hochtemperatur-Halogenreinigung, CVD-Schutzbeschichtung, Präzisionspolieren und Verdichtung durch Harz-/Asphaltimprägnierung, wählbar, um die Produktleistung nach Bedarf zu verbessern.


3. Schlüsselabmessungen

Maßtoleranz: Standard ±0,05 mm (anpassbar ±0,02 mm); Oberflächenrauheit Ra: Standard 0,8 μm (≤ 0,4 μm ultraglatte Oberfläche verfügbar).


Bestellung & Service

Mcvd-Discs unterstützen die Anpassung verschiedener Zeichnungen und Muster, einschließlich STP und DXF; Bei Standardprodukten dauert die Lieferung 2–3 Wochen, bei kundenspezifischen Mustern 4–6 Wochen. ISO9001:2015-zertifiziert, Testberichte von Drittanbietern sind verfügbar und die Zahlungsmethoden umfassen T/T und L/C.


Produktanwendungen

Mcvd-Discs finden vielfältige Anwendungsmöglichkeiten, darunter Abscheidungsprozesse bei der Herstellung von Vorformen für optische Fasern, Abscheidung von Halbleiter-Dünnfilmen, MOCVD-Epitaxie, spezielles Glas- und Kristallwachstum, wissenschaftliche Forschung und neue photovoltaische Energie.

Häufig gestellte Fragen

F1: Was sind die wichtigsten Leistungsindikatoren von Graphit-Mcvd-Discs?

A1: Zu den Kernindikatoren gehören: Graphitreinheit (typischerweise ≥99,99 %), Aschegehalt, Schüttdichte, Druckfestigkeit, Wärmeausdehnungskoeffizient, Wärmeleitfähigkeit sowie Maßgenauigkeit und Oberflächenrauheit nach der Verarbeitung. Diese Indikatoren bestimmen gemeinsam die Stabilität, Lebensdauer und Auswirkung auf die Qualität des abgeschiedenen Films in korrosiven Hochtemperaturumgebungen.


F2: Wie hoch ist die Lebensdauer der Ablagerungsscheibe? Wie kann die Lebensdauer verlängert werden?

A2: Die Lebensdauer hängt von den spezifischen Prozessbedingungen (Temperatur, Atmosphäre, Korrosivität usw.) ab und liegt typischerweise zwischen mehreren und Dutzenden Prozesszyklen. Um die Lebensdauer zu verlängern, empfehlen wir: 1) Auswahl eines für die Prozessatmosphäre geeigneten Beschichtungstyps (z. B. SiC-Beschichtung für stark oxidierende Umgebungen); 2) Einhaltung ordnungsgemäßer Installations-, Nutzungs- und Kühlverfahren; 3) Regelmäßige Reinigung und Pflege der Oberfläche, um mechanische Beschädigungen zu vermeiden.


F3: Unterstützen Sie eine vollständige Anpassung basierend auf unseren Reaktorzeichnungen?

A3: Ja, wir bieten umfassende Anpassungsdienste an. Sie können detaillierte Reaktorschnittstellenzeichnungen, Prozesstemperaturprofile und Atmosphärenanforderungen bereitstellen. Auf dieser Grundlage wählen wir Materialien aus, entwerfen die Struktur und führen eine Präzisionsbearbeitung durch, um sicherzustellen, dass die Abscheidungsplatte perfekt zu Ihrer Ausrüstung passt und die Prozessleistung optimiert.

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